刻蚀
1 深硅刻蚀（DRIE)
最大深宽比 50:1
样品大小：小片儿、4寸、6寸、8寸
2 反应离子刻蚀（RIE)
刻蚀材料：Si、SiN、SiO2
样品大小：小片儿、4寸、6寸、8寸
3 离子束刻蚀（IBE)
刻蚀材料：Au、Ti、Cr、Ni、VO2、Al2O3、W、Al、等多种金属、氧化物、氮化物
样品大小：小片儿、4寸、6寸、8寸
4 氧化硅、SiC刻蚀
刻蚀材料：石英、玻璃、SiC等
样品大小：小片儿、4寸、6寸
5 金属干法刻蚀机
Ti、TiN、Al、Al203、Ta、TaN、Mo、Ge等金属以及金属化合物的刻蚀
样品大小：小片儿、4寸、6寸
6 ICP刻蚀
刻蚀材料：GAN、GaAs、AlGaInP等
7 湿法腐蚀
酸性：H2SO4、HF、BOE、Cr腐蚀液
碱性：KOH、TMAH
8.深硅刻蚀
特色刻蚀能力：
碳化硅刻蚀 ，我们提供碳化硅光刻刻蚀加工 ，如果您想了解 我们的碳化硅刻蚀能力，请进入下述网址了解 ：
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