超薄晶圆
6寸硅片/铌酸锂临时键合与减薄,上层硅厚度减薄到了21.2-22.2um,TTV=1.0um。

8寸超薄硅晶圆,厚度6.5um 硅和玻璃临时键合 ,TTv0.7um

12寸硅片和玻璃临时键合,减薄到15um

8英寸单晶铌酸锂减薄到8-20微米(PPLN器件,压电MEMS器件应用)

6英寸钽酸锂减薄到20-50微米(热释电器件应用)

6英寸氧化镓减薄到30微米(大功率器件散热)

2英寸磷化铟减薄到20-50微米(光电器件散热)

6寸硅片/铌酸锂临时键合与减薄,上层硅厚度减薄到了21.2-22.2um,TTV=1.0um。

8寸超薄硅晶圆,厚度6.5um 硅和玻璃临时键合 ,TTv0.7um

12寸硅片和玻璃临时键合,减薄到15um

8英寸单晶铌酸锂减薄到8-20微米(PPLN器件,压电MEMS器件应用)

6英寸钽酸锂减薄到20-50微米(热释电器件应用)

6英寸氧化镓减薄到30微米(大功率器件散热)

2英寸磷化铟减薄到20-50微米(光电器件散热)

OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。