上海奥麦达微电子有限公司

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微纳加工公司

简讯-微转印技术-英特尔已与 X-Celeprint 签署了微转印技术合作意向书。

#异质集成 #微转印

英特尔和 X-Celeprint 将探索利用这一领先技术平台的机会,

将其应用于英特尔位于新墨西哥州的硅光子制造工厂。

X-Celeprint 是微转移打印技术应用领域的全球领导者,能够实现晶圆级

超异质集成,将多种材料集成到各种基板上。X-Celeprint 的微转移打印技术能够更高效、更经济地使用 III-V 族和 II-VI 族材料,

同时提高产能。组件和材料的芯片组可以在一次打印步骤中从源晶圆单独或以阵列形式转移(也可根据最终用户应用的需求,转移至多个目标晶圆)。

#2:a向 bto外延片

2寸 外延 a-向 bto(300nm或者500nm,或者定制)-sto 8nm(可定制)- 2um Sio2(可定制) -Si(可定制)

#3:C向 bto外延片

2寸 外延 c-向 bto(150nm或者300nm,或者定制)-sto 8nm(可定制)- 2um Sio2(可定制) -Si(可定制)

#提供8寸 8umSiO2热氧片,6寸15um热氧片 10um热氧片 8寸10um热氧片

室温低损伤@GCIB抛光代工@束斑小(4-5mm)更均匀

未经过Trimming 工艺的 6寸LN/LTOI晶圆 数据:

Range:100-200A

经过Trimming 工艺的 6寸LN/LTOI晶圆 数据:

Range:60A以内

划重点--销售晶圆和加工
SOI晶圆:--220nm薄膜/ 3um厚膜-3umSIO2-675um

ALOOI晶圆;--氧化铝薄膜晶圆,键合工艺和镀膜工艺

TAOOI晶圆--氧化钽薄膜晶圆,镀膜工艺

SINOI晶圆--超低损耗氮化硅薄膜晶圆,160nm-180nm-200nm-300nm-350nm-400nm-800nm

SICOI晶圆;新型量子光学平台500nm-700nm-1um

8寸LTOI晶圆批量供应;铌酸锂的有力的竞争对手,薄膜钽酸锂晶300600

8寸LNOI晶圆;8寸LNOI助力更大规模薄膜铌酸锂产品量产

LN/LT-SOI/Si/SIN  W2W&D2W异质集成

流片: 6寸 氮化硅 铌酸锂 硅光 超高性价比流片, 1个BLOCK的价格买一整片晶圆

划重点--全国产-超高性价比-6 寸硅光-氮化硅-铌酸锂流片白皮书

我们为客户提供晶圆(硅晶圆,玻璃晶圆,SOI晶圆,GaAs,蓝宝石,碳化硅(导电,非绝缘),Ga2O3,金刚石,GaN(外延片/衬底)),镀膜(PVD,cvd,Ald,PLD)和材料(Au Cu Ag Pt Al Cr Ti Ni Sio2 Tio2 Ti3O5,Ta2O5,ZrO2,TiN,ALN,ZnO,HfO2。。更多材料),键合(石英石英键合,蓝宝石蓝宝石键合)光刻,高精度掩模版,外延,掺杂,电子束光刻等产品及加工服务(请找小编领取我们晶圆标品库存列表,为您的科学实验加速。

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关于我们:

OMeda成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。目前拥有员工15人,在微纳加工(涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合)等领域拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。

中国(上海)自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话:+86 188 233 40140 邮箱:jing.chen@omeda-optics.com

来源:OMeda

关于我们

OMeda(上海奥麦达微)成立于2021年,由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺,项目人员创立。在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合,键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时,我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学,激光器,光子集成电路,Micro LED,功率器件等行业。

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