光学⽤同成分 铌酸锂（CLN）晶圆
| 切向 | X-Z ；Z-X | ||||||
| 直径 | 76.2±0.2mm | 100.0±0.2mm | 150.0±0.2mm | ||||
| 主基准⾯⻓度（OF） | 22±2mm | 32±2mm | 47.5±2mm | ||||
| 第⼆基准⾯ | 根据客户要求而定 | ||||||
| 厚度 | 180~250±20μm, 350±20μm, 500±20μm | ||||||
| 翘曲度(WARP） | <25μm | ||||||
| 弯曲度（BOW) | -25μm<BOW<25μm | ||||||
| PLT | >95%(5mm*5mm) | ||||||
| TTV | <5μm | ||||||
| 缺陷数量（直径<0.3μm) | <500个 |
光学⽤同成分 铌酸锂（CLN）晶圆光学基本性能指标
| 居⾥温度（℃） | 1142±1 | |
| 光学均匀性（∆n/cm) | Δn<10 -5/cm | |
| 消光系数 | <0.0001 | |
| 应⽤领域 | 制作电光、非线性光学器件 | |
关于我们：
OMeda成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。目前拥有员工15人，在微纳加工（涂层、光刻、蚀刻、双光子印刷、键合）等领域拥有丰富的经验。 同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。 部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学等行业。
中国（上海）自由贸易试验区临港新片区业盛路188号450室 电话：+86 188 233 40140 邮箱：jing.chen@omeda-optics.com
来源：OMeda
OMeda（上海奥麦达微）成立于2021年，由3名在微纳加工行业拥有超过7年经验的工艺，项目人员创立。在微纳加工(镀膜、光刻、蚀刻、双光子打印、键合，键合)等工艺拥有丰富的经验。 同时，我们支持4/6/8英寸晶圆的纳米加工。部分设备和工艺支持12英寸晶圆工艺。针对MEMS传感器、柔性传感器、微流控、微纳光学，激光器，光子集成电路，Micro LED,功率器件等行业。
