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本文分享一篇ald在手机摄像头中的应用，由于其可以在透镜上实现极高的透过率因此可以最大限度减少重影和炫光，同时也可以有效地提升照相效果。

一半的消费者认为智能手机摄像头的质量是他们购买的关键因素。整整四分之一（25%）的受访者表示，他们最看重智能手机的摄像头。

当然产品这么好，全球领先的企业也都在这块研发，根据苏州读者反馈的讯息，舜宇，小米，苹果，大立，水晶等企业都在进行这块产品的技术开发和使用。

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当今最现代、最强大的摄像头模块，在手机和自动驾驶汽车等消费技术中备受信赖，但仍继续遭受不必要的重影和耀斑的困扰。这些光学现象是由多镜头相机系统中存在的几种材料界面的环境光反射和散射引起的。传统的抗反射涂层 （ARC） 用于缓解这些成像问题;然而，通常需要非常厚的光学堆栈（≥1 μm），这会导致漫长而昂贵的镀膜工艺。

原子层沉积提供了一种在复杂形状上沉积具有高保形性的抗反射涂层的简单方法。由于原子层沉积工艺在所有表面上沉积相同数量的材料，并具有 100% 的覆盖率，因此它实际上是为制造手机镜头应用的 AR 涂层量身定制的。

原子层沉积不仅可以在复杂的镜片几何形状上提供近乎完美均匀的薄膜，而且可以很容易地缩放以在单个批次中镀膜数百到数千个镜片。事实上，低温和等离子体增强原子层沉积工艺通常用于防止对软聚合物材料的损坏。

不同薄膜沉积方法的阶梯覆盖率比较。与脉冲激光沉积 （PLD）、化学气相沉积 （CVD） 和物理气相沉积 （PVD） 等传统光学镀膜方法相比，ALD 提供了更高的保形性，这是下一代光学器件的重要参数。

ALD 优于离子束溅射 （IBS） 和电子束蒸发 （EBE） 等物理气相沉积 （PVD） 方法，适用于复杂的光学几何形状和高度工程化的镀膜设计。原子层沉积的保形性、精度和可调性使其成为高级光学设计的完美方法。来自 Weiss 和 Ebert，2017 年。

创新的 Beneq AtomGrass™ 广角宽带减反射涂层在 380-1000 nm 范围内的平均反射率低于 0.07%，并且在入射角高达 50 度时表现一致。

除了提供卓越的 AR 性能外，该涂层的厚度仅为 150 nm，仅为传统 AR 涂层的一小部分。它还可以通过改变成分来调整到不同的波段和反射最小值。在 Beneq 博客上的这篇文章中了解有关此应用程序的更多信息。

Beneq AtomGrass™ 广角宽带减反射涂层与传统 ARC 的比较。Beneq 的解决方案不仅在平均反射最小值和带宽方面优于传统涂层，而且在大入射角下性能也更好

我们使用 P 系列热批量原子层沉积 ALD 系统开发了采用原子层沉积 （ALD） 技术的下一代 ARC。使用 Beneq ALD，我们利用梯度折射率和低温 （100°C） 工艺生产总厚度为 ∼150 nm 的 ARC，仅为传统 ARC 厚度的一小部分。

图 1 显示了设计的 ARC 在 D263 玻璃上测得的反射率，入射角 （AOI） 为 7°。作为参考，我们还显示了总厚度为∼1μm的传统TiO2-SiO2 ARC的模拟反射率。

使用 Beneq 的 ALD-ARC，我们在 410 nm 和 550 nm 左右获得了大约 0.05% 的非常低的反射率。此外，我们观察到宽带宽ARC性能，在380-620 nm之间平均反射率为∼0.07%。通过调整光学设计，平均反射率可以向更长或更短的波长移动，以用于目标应用。

Beneq 的 ALD-ARC 可应用于多种类型的基材，从纳米结构组件到高度弯曲的透镜和圆顶。Beneq 批量原子层沉积 （ALD） 系统采用薄型设计，能够容纳大量组件，无需添加等离子体，即可在玻璃和聚合物组件上以极低的成本生产 ARC。该工艺为新兴应用中使用的相机镜头系统的光学镀膜的大规模生产铺平了道路。

采用传统 PVD 方法镀膜的镜片和采用 Beneq ALD 增透膜镀膜的镜片的比较。对于在可见光和可见光到近红外范围内优化的镀膜，与传统的增透膜镀膜相比，ALD 大大减少了镜头眩光量。

当今手机摄像头中的原子层沉积

事实上，原子层沉积（ALD）已经进入了当今的手机摄像头。2022 年，小米在其新款 Redmi 12S 智能手机的相机的镜头元件上悄悄引入了 ALD 抗反射涂层。预计更多的原始设备制造商将开始采用ALD作为其移动相机镜头的镀膜技术。

根据 Android Authority 的一项调查，一半的消费者认为智能手机摄像头的质量是他们购买的关键因素。整整四分之一（25%）的受访者表示，他们最看重智能手机的摄像头。

考虑到相机质量作为 4 个消费者中 3 个的决定性因素的重要性，OEM 将继续投资于他们能找到的最佳技术也就不足为奇了。随着原子层沉积为下一代手机摄像头提供动力，这张照片肯定会说明问题。